因應2奈米楠梓P3廠設廠 台積電提17.22公頃甲工土地都計變更
台積電緊迫建廠營運需求,擬於楠梓籌設計畫之範圍內勘選土地啟動第3期建廠,達成該廠115年營運之目標,因此向高市府提出變更園區內17.22公頃的特種工業區土地,為符合土地使用分區的甲種工業區土地。(圖:本報資料照)
台積電在楠梓產業園區一期園區已於111年9月取得建照,並啟動2奈米先進製程第1期建廠,目前興建工程進行中,第2期亦接續啟動,而面臨全球半導體產業供應鏈轉變及需求,以及針對產業製程全球布局考量,台積電仍具緊迫之建廠營運需求,擬於楠梓籌設計畫之範圍內勘選土地啟動第3期建廠,達成該廠115 年營運之目標,以延續先進製程、發揮產能群聚綜效,因此向高市府提出變更園區內17.22公頃的特種工業區土地,為符合土地使用分區的甲種工業區土地。
高雄市政府先行啟動於高雄煉油廠區依《產業創新條例》報編設置楠梓產業園區29.83公頃(一期園區),完成環境影響評估、都市計畫變更、土壤及地下水污染整治等作業,並解決用水(含再生水)、用電、污水處理、空污抵減等事項,再由南部科學園區管理局接續辦理高雄煉油廠全區籌設為科學園區,行政院於112年7月14日核定之「南部科學園區擴建高雄第三園區(楠梓園區)籌設計畫」。
計劃區配置半導體廠房生產區、行政區、廠區道路、緩衝綠帶及滯洪池等設施空間。(圖:翻攝公展計畫書)
台灣積體電路製造股份有限公司在公開展覽說明書中表示,本計畫位於楠梓區油廠段28地號等14筆部分土地,其中 99.30%為台灣中油公司所有,另有0.70%為私有土地,並為台灣中油公司租用,本計畫範圍涉及第4區土污整治分區,第 4區預計於113年6月改善完成,並依相關法令經由環保局進行驗證。
本計畫預計進駐半導體相關產業,土地規劃考量高雄煉油廠既有道路及未來全期園區計畫道路之銜接、廠區滯洪需求及本計畫籌建半導體廠房需求等,配置半導體廠房生產區、行政區、廠區道路、緩衝綠帶及滯洪池等設施空間。
本計畫總面積17.22公頃,變更特種工業區為甲種工業區,並循都市計畫法高雄市施行細則附表一之土地使用分區管制項目,及依循原特種工業區建蔽率、容積率分別為 40%、160%。
台積電也在公展計劃書中列出,本計畫引進就業人口預估約750人(17.22公頃),而未來將銜接籌設計畫之都市計畫變更(約175.3公頃)之內容,故長期整體聯外交通計劃遵循籌設計畫相關內容,依循籌設計畫園區就業人數預估約為4500人、協力廠商人數約3000人。
園區衍生交通量包括客運旅次及貨運旅次,因貨運旅次依廠區生產周期而定,且將限制貨車進出之時段、避開通勤尖峰時段,故僅就客運旅次進行尖峰小時交通量預估。
考量原高煉廠自 104 年底關廠後,中油公司遂提出高雄煉油廠工廠區土壤及地下水污染控制計畫,原規劃分階段於122年始完成污染改善,高市府為加速推動中油高煉廠內土壤及地下水污染場址改善工作,促進都市發展,並配合國家產業政策,活化區域土地,提早完成整治,達成原高煉廠解除列管、活化土地之目標。
中油公司於110年提出第三次變更計畫,除原高煉廠工廠區土壤及地下水污染控制場址,地下水控制場址147筆地號共約176.8公頃,土壤控制場址162筆地號約152.3公頃。
目前整治分區 1-1區及第3區已整治完成並解除列管,第4區已整治完成刻正向環保局辦理解除列管中,其餘尚待整治部分,依「加速高雄煉油廠第 1、2、5 及6 區土壤及地下水污染整治工作(北 1 區案、北2區案、中區案、西區案、南區案)」招標文件資訊,離地整治作業履約期程至 114年 7 月,現地整治作業履約期程至 115年7月。
籌設計畫園區東側國道1號增設聯外匝道/聯絡道,銜接至園區內東側道路。高市府將評估原高煉廠區東側鐵路地下化,打通往東銜接台1線之道路。(圖:翻攝公展計畫書)
園區聯外交通推動方面,新台17線分為南北兩段開闢。北段由橋頭區典昌路至楠梓區德民路,已於111年6月完工通車;南段由德民路行經左營區中海路至介壽路口,已完成初步規劃。
其中,中海路以北約400公尺至中海路口間原50公尺寬待開闢之都市計畫道路需變更為40公尺寬、中海路口至介壽路口間原40公尺寬待開闢之都市計畫道路需變更為30公尺寬,此外,亦配合既有南門圓環之改善調整路型。截彎取直的道路可縮短高雄大學城通往美術館距離,完工後可節省15分鐘車程,快速串連楠梓、左營與原高煉廠。
另外,「高雄第三(楠梓)園區聯外交通整體計畫」,目標為聯外交通闢建後可帶動楠梓園區之發展,配合高市府於楠梓園區周邊之短中期交通改善措施,合力提升及完善楠梓園區及周邊地區之交通系統。將於籌設計畫園區東側國道1號增設聯外匝道/聯絡道,銜接至園區內東側道路。高市府將評估原高煉廠區東側鐵路地下化,打通往東銜接台1線之道路,以平衡東西兩側車流,解決車流過於集中於原高煉廠西側之問題。
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